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Attrezzatura per incisione laser

Incisione laser ultrafine da 5 μm: precisione submicronica per semiconduttori e FPC. Elaborazione ad alta velocità da 2000 mm/s: 4 volte più veloce rispetto all'incisione chimica, zero sprechi. Compatibilità con oltre 200 materiali: dal vetro alle leghe di titanio, senza contatto. Controllo HMI intelligente: messa a fuoco automatica e integrazione CAD, certificazione ISO.
  • Le Cheng
  • Shanghai
  • Tre mesi
  • Cinquanta set entro l'anno

Caratteristiche strutturali

Il nostro sistema di incisione laser integra ingegneria all'avanguardia per prestazioni senza pari:

  1. Sorgente laser ultra stabile: laser a fibra/UV/picosecondo con durata dell'impulso regolabile (ns/ps/fs), opzioni di lunghezza d'onda (355 nm, 532 nm, 1064 nm) e potenza di picco fino a 50 W.

  2. Sistema di movimento ad alta precisione: piattaforma in granito con cuscinetto d'aria e precisione di posizionamento di ±1μm, abbinata alla scansione galvanometrica (campo visivo 7mm²–300mm²) per la modellazione dinamica.

  3. Suite di controllo intelligente:

    • Messa a fuoco automatica sull'asse Z in tempo reale (risoluzione: 0,1 μm)

    • Allineamento della visione CCD per una precisione di sovrapposizione di ±5μm

    • HMI con software proprietario che supporta i formati DXF, Gerber, BMP

  4. Controllo ambientale multistrato:

    • Contenitore compatibile con camera bianca di classe 1000

    • Regolazione attiva della temperatura e dell'umidità (±0,5°C)

    • Aspirazione fumi integrata con filtrazione HEPA

  5. Percorso di aggiornamento modulare: piattaforma rotante a 3 assi opzionale, profilometria in situ o configurazione ibrida multi-laser.

  6. Laser Etching Equipment​


Vantaggi tecnici

Rivoluziona la tua produzione con innovazioni tecnologiche fondamentali:

  • Precisione sub-micronica: ottieni dimensioni delle caratteristiche da 5 a 20 μm (Ra < 0,2 μm) tramite la modellazione del fascio limitata dalla diffrazione.

  • Lavorazione senza contatto: elimina l'usura degli utensili e lo stress meccanico per i materiali fragili (ad esempio, SiC, vetro).

  • Controllo energetico adattivo: la modulazione della potenza impulso per impulso (1–100% in incrementi dello 0,1%) consente l'ablazione selettiva di più strati (ad esempio, ITO/Ag/PET).

  • Velocità ed efficienza: velocità di scansione di 2000 mm/s con accelerazione di 50 g; 4 volte più veloce dell'incisione chimica.

  • Funzionamento eco-consapevole: consumo energetico inferiore del 30% rispetto alla concorrenza; niente agenti corrosivi tossici o acque reflue.

precision laser etching

Applicazioni tipiche

Promuovere l'innovazione in tutti i settori:

SettoreCasi d'usoVantaggi principali
SemiconduttoriTaglio a cubetti dei wafer, rifilatura dei circuiti integrati, marcatura dei pacchettiLarghezza del taglio <10μm, zero micro-crepe
FPD/LEDModellazione FPC, rimozione dell'incapsulamento OLED, incisione del sensore touchAblazione selettiva, tasso di resa del 99,9%
SolarePerforazione di celle PERC (fori da 10–20 μm), incisione su film sottile500 fori/sec, precisione di posizione ±2μm
Dispositivi mediciTesturizzazione degli stent, microscanalatura degli impianti, fabbricazione di canali lab-on-chipModifica della superficie biocompatibile
Ricerca e sviluppo avanzataElaborazione di materiali 2D, creazione di metasuperfici, prototipazione di dispositivi quantisticinanosecondi termici im


Le specifiche sono solo indicative. Tutte le attrezzature sono completamente personalizzabili in base alle vostre esigenze!



  • Quanto tempo passa dall'ordine dell'attrezzatura alla produzione ufficiale quando si collabora con Locsen?

    La tempistica complessiva varia a seconda delle specifiche dell'apparecchiatura e della scala della linea di produzione. Per le apparecchiature singole, i modelli standard richiedono un ciclo di produzione di 45 giorni, con una durata totale (inclusa spedizione e installazione) di circa 60 giorni. Le apparecchiature personalizzate richiedono ulteriori 30 giorni in base ai requisiti tecnici. Per soluzioni di linea complete: • Le linee di produzione da 100 MW richiedono circa 4 mesi per la pianificazione, la produzione delle apparecchiature, l'installazione e la messa in servizio • Le linee di produzione di livello GW richiedono circa 8 mesi Forniamo programmi di progetto dettagliati con responsabili dedicati, garantendo un coordinamento impeccabile. Esempio: la linea di produzione di perovskite da 1 GW di un cliente è stata completata con 15 giorni di anticipo rispetto al previsto, grazie alla produzione parallela di attrezzature e alla costruzione dell'impianto.
  • Locsen offre attrezzature e soluzioni di partnership adatte per le aziende startup di perovskite?

    Locsen offre un "Phased Partnership Program" specificamente progettato per le startup del settore della perovskite. Per la fase iniziale di ricerca e sviluppo, forniamo apparecchiature compatte su scala pilota (ad esempio sistemi di incisione laser da 10 MW) abbinate a pacchetti di processo essenziali per facilitare la convalida della tecnologia e l'iterazione del prodotto. Durante le fasi di espansione, le startup hanno diritto a vantaggi di upgrade: • I moduli principali delle apparecchiature pilota possono essere scambiati con una detrazione del valore verso macchinari della linea di produzione • Collaborazione tecnica facoltativa, incluso il supporto allo sviluppo dei processi e la condivisione dei dati sperimentali Questo programma ha consentito a numerose startup di passare agevolmente dalla produzione in laboratorio a quella pilota, riducendo al contempo i rischi di investimento nella fase iniziale.
  • Le apparecchiature di Locsen possono gestire celle solari a perovskite di diverse dimensioni? Qual è la dimensione massima supportata?

    Le apparecchiature laser di Locsen sono caratterizzate da un'eccezionale compatibilità dimensionale, in grado di elaborare celle solari in perovskite che vanno da 10 cm × 10 cm a 2,4 m × 1,2 m. Per l'elaborazione di celle di grandi dimensioni (ad esempio substrati rigidi da 12 m×2,4 m), offriamo sistemi laser personalizzati di tipo gantry con sincronizzazione multi-testa laser per garantire precisione e produttività. • Prestazioni comprovate: celle da 1,2 m×0,6 m elaborate con successo con precisione di tracciatura leader del settore (±15 μm) e uniformità (>98%) • Design modulare: i moduli ottici intercambiabili si adattano a spessori variabili (0,1-6 mm) • Calibrazione intelligente: l'allineamento del raggio in tempo reale assistito dall'intelligenza artificiale compensa la deformazione del substrato
  • Locsen fornisce soluzioni laser personalizzate per tutte le fasi chiave della produzione delle celle solari in perovskite?

    Sì, Locsen fornisce soluzioni complete di lavorazione laser che coprono l'intera filiera produttiva delle celle solari in perovskite: Marcatura laser P0: per l'identificazione delle cellule dopo la deposizione del film Scribing laser P1/P2/P3: modellazione di precisione di • Strati conduttivi trasparenti (P1) • Strati attivi di perovskite (P2) • Elettrodi posteriori (P3) Isolamento del bordo P4: rifinitura del bordo a livello di micron per prevenire cortocircuiti Moduli a celle tandem: sistemi di incisione laser dedicati per la lavorazione di strati multi-materiale Il nostro ecosistema di apparecchiature integrate garantisce che tutti i requisiti di elaborazione laser siano soddisfatti con: • Precisione di allineamento ≤20μm tra gli strati • Zona di influenza termica controllata sotto i 5μm • Piattaforme modulari a supporto della ricerca e sviluppo per la produzione su scala GW
  • Quali intervalli di tolleranza della composizione supportano gli strumenti di Locsen per le varianti di formulazione della perovskite?

    I sistemi laser di Locsen dimostrano un'eccezionale adattabilità a diverse composizioni di perovskite. • Parametri precaricati: impostazioni ottimizzate per le formulazioni tradizionali (ad esempio, FAPbI₃, CsPbI₃) nella libreria di ricette laser consentono l'accesso immediato dell'operatore • Supporto R&S: per nuove composizioni (ad esempio, perovskiti a base di Sn), il nostro team fornisce: calibrazione personalizzata della lunghezza d'onda/fluenza entro 72 ore convalida delle prestazioni che garantisce<1% PCE degradation post-processing • Smart Compensation: On-board spectroscopy modules monitor reflectivity in real-time, automatically adjusting: Pulse duration (20-500ns) Beam profile (Top-hat/Gaussian) Energy density (0.5-3J/cm²) Technical Highlights: ▸ Tolerance for ±15% stoichiometric variation in Pb:Sn ratios ▸ Support for 2D/3D hybrid phase patterning ▸ Non-contact processing avoids cross-contamination

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